所属单位：机电工程学院

教研室：机电工程学院

发表刊物：红外与激光工程

项目来源：省、市、自治区科技项目

关键字：复合抛光;紫外光;振动;碳化硅陶瓷;团聚;

摘要：为了满足工业领域的不同要求，研究了碳化硅（SiC）陶瓷超光滑表面且无表面损伤的抛光工艺，提出了一种紫外光催化振动复合抛光新方法。基于紫外光催化反应理论，论述了光催化振动复合抛光的加工机理，进行了不同的实验。首先进行了甲基橙降解实验，研究了光催化振动复合抛光氧化性对振动的依赖关系；接着进行了紫外光催化振动复合抛光对比实验，研究了振动前后SiC的抛光效果，验证了新抛光方法的有效性。实验结果表明，光催化反应生成的强氧化性羟基自由基能够将高硬度的SiC氧化成质地较软的二氧化硅，振动的引入减少了光催化反应中光催化剂的团聚，提高了抛光过程中氧化和去除的均匀性，从而提高了抛光过程中SiC的表面质量，最终获得了粗糙度为31～39 nm的光滑表面。

合写作者：郭桌一,卢发祥,谷岩

第一作者：于保军

论文类型：期刊论文

页面范围：2

是否译文：否

发表时间：2022-05-13