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Affiliation of Author(s):机电工程学院
Journal:光子学报
Funded by:省、市、自治区科技项目
Key Words:纳米压印，光栅结构，振动辅助纳，薄膜，填充率，透射率
Abstract:针对纳米压印过程中压印胶填充率低导致图案转移质量不佳，压印力过大损坏模板表面形貌 等问题，提出一种基于压电驱动低频、低幅的振动辅助纳米压印方法制备光栅结构。在压印时施加横 向一维振动，减小纳米压印过程中所需的压印力，提高压印胶对模板空腔的填充率。为研究双面光栅 薄膜的周期变化对透射率的影响规律，运用时域有限差分法在波长 500~1 500 nm 范围内对不同周期参 数的双面光栅结构进行仿真分析，得到周期参数变化对透射率的影响规律。在研制的振动装置上进行 振动辅助纳米压印实验，并对制备出的双面光栅结构进行表面形貌表征以及透射率检测。实验结果表 明，与无振动纳米压印技术相比，压印胶填充率显著提高，并改善了图案转移质量，减少大面积表面缺 陷。在波长 500~1 500 nm 范围内，涂覆振动辅助纳米压印制备的双面光栅薄膜的 SiO2比传统纳米压 印制备的双面光栅薄膜的 SiO2平均透射率提高 4%，较无薄膜的 SiO2平均透射率提高 6%。
First Author:liuyamei
Indexed by:Journal paper
Volume:Vol 51
Issue:2022年6月
Page Number:2
Number of Words:1
ISSN No.:1004-4213
Translation or Not:no
CN No.:61-1235/04
Date of Publication:2022-06-15